等離子體處理效果

  • 清除產品表面的 有機污染源
  • 清潔(脫脂、酸洗)效果
  • 清潔後 激活表面

去除靜電
静电去除

清除有機物
有机物质的清除

表面活化
激活效应

清除水分
去水分

修改表面粗糙度
表面處理
等離子體溶液清洗

静电去除

程序條件

伊昂納澤

使用設備:N₂ 等離子體/1500m 輸送機
處理設備: N₂, Ar
處理速度: 30mm/sec
處理次數:單程1次

N₂ 靜電測量

Ar 靜電測量

等離子體溶液清洗

有机物质的清除

  • 快速工藝速度與穩定性

  • 無新冠肺炎效果的前處理

  • 材料與高電壓無接觸

  • 有效費用

  • 環保表面改性

  • 由均勻等離子體噴射引起的寬處理窗

等離子體溶液清洗

激活效应

  • 等離子體處理使表面張力Up

  • 寬表面也具有均勻的表面活性化功能

等離子體溶液清洗

除水

  • 寬表面也具有均勻的表面活性化功能
  • 塗層/印刷/電鍍 提高後處理特性
等離子體溶液清洗

表面处理

  • cf) AFM 分辨率:0.1nm

等離子體未處理: 1,420nm 粗糙度
死表面上的凸起

等離子體處理: 1,678nm 粗糙度
鮮明的表面突起