特許と証明書
2021年
![벤쳐기업](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/벤쳐기업.jpg)
2021.04.16 第 2021-11287
「景気ベンチャー企業協会会員証」
2020年
![2020-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2020-1-1.jpg)
2020.04.09 10-2020-0043280
大気圧プラズマを用いたディスプレイパネルパターニング法の出口
![2020-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2020-2-1.jpg)
2020.04.09 10-2020-0043279
FMMの乾燥洗浄装置および方法
![2020-3-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2020-3-1.jpg)
2020.05.11 ESC3721
環境管理システム証明書 │ ISO1400:2015
2019年
![2019-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2019-1-1.jpg)
2019.04.10 20071181
企業付設研究所認定書(所在地変更)
![2019-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2019-2-1.jpg)
2019.10.08 특허 10-2032294
大気圧プラズマ発生器
2018年
![2018-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2018-1-1.jpg)
2018.10.12 R150601-01515
技術革新型中小企業(Inno-Biz)確認書
![2018-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2018-2-1.jpg)
2018.04.30 CST253272/1
CE 証明書 │ ILP-350S
2017年
![2017-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2017-1.jpg)
2017.11.30 10-185740 │特許証
可視性を有する大気圧プラズマ発生器
2016年
![2016-3-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2016-3-1-1.jpg)
2016.01.29 10-1591863
特許証 │ 大気圧プラズマ処理プロセスを用いた低温ポリシリコン基板の表面平面化法
![2016-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2016-1-1.jpg)
2016.06.01 16경기 24
輸出有望中小企業指定証
![2016-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2016-2-1.jpg)
2016.09.28 4787599910-1
CE 証明書 │ILP-700C
2015年
![2015-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2015-1.jpg)
2015.07.13登録番号:QSC2879
品質管理システム証明書| ISO9001: 2008
2014年
![2014-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2014-1-1.jpg)
2014.07.08 アメリカ特許 US 8,771,806 B2
疎水性または超疎水性処理のために上圧プラズマを用いた表面コーティング方法
![2014-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2014-2-1.jpg)
2014.08.00 日本特許 5594820
一様な上圧プラズマ発生器
2013年
![2013-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2013-1-1-1.jpg)
2013.02.12 アメリカ特許 US 8,373,088 B2
一様な上圧プラズマ発生器
![2013-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2013-2-1.jpg)
2013.12.06 20130112862
ベンチャー企業確認書
![2013-3-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2013-3-1.jpg)
2013.12.12 20071181
企業付設研究所認定書(所在地修正)
2012年
![2012-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2012-1-1.jpg)
2012.08.25 特許 10-1061159
直接上圧プラズマを用いたバイオチップの低温ボンディング法
![2012-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2012-2-1.jpg)
2012.09.05 中国特許 1039112
疎水性または超疎水性処理のための上圧プラズマを用いた表面コーティング方法
![2012-3-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2012-3-1.jpg)
2012.02.28 41-0227404
商標登録 │ APPロゴ
2011年
![2011-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2011-1-1.jpg)
2011.05.03 登録番号: Q252811
品質管理システム証明書 | ISO9001: 2008
![2011-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2011-2-1.jpg)
2011.08.25 特許 10-1061159
直接上圧プラズマを用いたバイオチップの低温ボンディング法
2010年
![2010-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2010-1-1.jpg)
2010.12.01 2010 京畿-193
輸出有望中小企業指定 | 大気圧プラズマ装置
![2010-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2010-2-1.jpg)
2010.01.21 特許 10-0939278
同じものを用いた上圧プラズマ装置および導電性ポリマー組成の上圧プラズマ処理方法
2009年
![2009-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2009-1.jpg)
2009.07.10 特許 10-0908334
コーティング前処理システムと上圧プラズマを用いた方法
2008年
![2008-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2008-1-1.jpg)
2008.05.08 NO. N8 08 05 66787 001
CE 証明書
![2008-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2008-2-1.jpg)
2008.12.01 特許 10-0872682
一様な上圧プラズマ発生器
2007年
![2007-1-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2007-1-1.jpg)
2007.09.14 特許 10-0760551
上圧プラズマ発生器
![2007-2-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2007-2-1.jpg)
2007.11.06 特許 10-077578
疎水性または超疎水性処理のための上圧プラズマを用いた表面コーティング方法
![2007-3-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2007-3-1.jpg)
2007.01.29 40-0697459
商標登録証 | 上圧プラズマによるコーティング処理業など7件
![2007-4-1](https://www.applasma.com/wp-content/uploads/2021/04/2007-4-1.jpg)
2007.05.21 41-0148997
商標登録証 | 上圧プラズマによるコーティング処理業など7件